Limpiador de plasma RF O2 compacto

El GD-10RF es un limpiador de plasma RF O2 compacto diseñado para laboratorio y producción de lotes pequeños: una fuente RF de 13,56 MHz impulsa una cámara de acero inoxidable de 10 L, con dos líneas de gas que permiten un control preciso de las recetas de limpieza y activación a base de oxígeno.

Limpieza de precisión con plasma uniforme
PLC + pantalla táctil — operación sencilla
Cámara y configuración de gases personalizables

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Especificaciones técnicas

Producto	Limpiador de plasma por vacío
Modelo	GD-10RF
Sistema de control	PLC + pantalla táctil
Frecuencia de alimentación	13,56 MHz
Alimentación	AC220V (±10V)
Potencia de salida	300 W (ajustable)
Líneas de gas	Control de caudal de flotador de 2 canales
Control del proceso	Modos automático y manual
Tamaño de cámara (mm)	200 × 250 × 200 (An × Pr × Al), acero inoxidable 316
Bandeja de transporte	175 × 185 (An × Pr), 3 niveles
Dimensiones generales (mm)	600 × 560 × 600 (L × An × Al)
Volumen de cámara	10 L
Rango de vacío	10–30 Pa
Gases admisibles	Argón, oxígeno, nitrógeno, aire, H2+N2 (gases mezclados)

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Por qué RF + oxígeno

Operar con oxígeno a 13,56 MHz mantiene la descarga estable y uniforme, descomponiendo residuos orgánicos sin el calentamiento localizado ni el riesgo de arco que los sistemas de menor frecuencia pueden presentar en vidrio, PTFE y otros no metales. Consulte la guía de selección de gases.

Ver la guía de gases

Aplicación

Limitaciones

Limitaciones reales

La cámara admite piezas de hasta aproximadamente 200 × 250 × 200 mm, y la bandeja de transporte soporta tres niveles por lote, por lo que los utillajes más grandes necesitan una cámara mayor.

Tamaño de cámara

Admite piezas de hasta aproximadamente 200 × 250 × 200 mm; la bandeja soporta tres niveles por lote.
Sin esclusa de carga

Cámara sellada única: cada ciclo requiere ventilación a la atmósfera antes de recargar, por lo que el rendimiento es manual.
Limitaciones de O2

Los metales que se oxidan con facilidad, como el cobre y la plata, necesitan una mezcla con argón.
Escala de lote

Diseñado para laboratorio y lotes pequeños; la producción de mayor volumen debería pasar a un sistema más grande o en línea.

Fabricación

Fabricado por un fabricante directo

Fari Plasma diseña y fabrica el GD-10RF internamente en lugar de revender hardware de terceros, y cada unidad se inspecciona antes de enviarse.

Cada unidad se inspecciona visual, eléctrica y funcionalmente.
La potencia de salida, los caudales de gas y las condiciones del proceso se verifican individualmente.
Los resultados se vinculan al número de serie de esa unidad para una trazabilidad completa.

Contacto

Comparar modelos de limpiadores de plasma

El GD-10RF es adecuado para trabajos de laboratorio y a escala piloto. Para distintas capacidades o potencias, los sistemas de la misma familia mantienen el mismo proceso compatible con O2 sin necesidad de rediseñar la cámara.

Cámara más grande

Para trabajos de laboratorio por lotes, el Sistema de limpieza por plasma de vacío de laboratorio ofrece una cámara más grande.
Mayor potencia

Para trabajos de grabado o activación más exigentes, el Tratamiento por plasma de vacío de alta potencia ofrece más potencia.
Escala de producción

Para volúmenes a escala de producción, el Sistema de limpieza por plasma de vacío de 600 L gestiona un mayor rendimiento.
Misma huella

Para una configuración alternativa con la misma huella, el Limpiador por plasma de vacío compacto está disponible.

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Solicite una cotización para el GD-10RF o consulte sobre la configuración OEM/ODM: el tamaño de la cámara, el número de líneas de gas y la interfaz de control se pueden ajustar para adaptarse a su proceso. Contáctenos para una evaluación técnica y las especificaciones actuales.

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